科技快讯-K SEMICON China 2026:国产 5nm 量检测设备突破 在上海举办的 SEMICON China 展会上,国产设备厂商展示了针对 5nm 工艺的量检测原型机。业内专家指出,中国半导体设备在刻蚀、薄膜沉积等关键环节的国产化率正从 28nm 向更先进的 14nm 及以下节点渗透,参展商数量创历史新高。 生成海报分享 电子时报 / SEMI 中国 2026-03-31 参与讨论
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