ASML 确认 2026 年将交付首批 High-NA EUV 光刻机至英特尔

5 月 3 日 ASML 财务报告指出，尽管地缘政治复杂，但高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机的研发已达量产阶段。英特尔将成为全球首家应用该设备的企业，用于其 1.4nm 工艺节点的研发。

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